NTE-4000（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTERNTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格,高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。NTE-3000热蒸发系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。
NTE-4000（M）蒸发系统是一个台式系统，跟我们的溅射系统共享一个共同的平台；比如：橱柜，腔体，真空系统，计算机控制架构等方面都是一样的。*的区别是一个使用磁控管，另一个使用加热坩埚. 因此，在我们溅射系统上的许多技术同样适用到我们的热蒸发系统中，比如：样品台的加热，旋转，偏斜；涂覆前的等离子清洗，膜厚监测，序列或同时操作多源；钟罩、铝或不锈钢腔体；预真空锁以及自动装片/取片系统等。
NTE-4000跟NSC-4000很像, 除了样片台是在顶部并且样片是面朝下固定。因为有许多的共同点，我们可以提供NTS系列的系统(NTS-3000,NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术，而无须中断真空。
Nano-Master的蒸发系统的另一大*优势是持续性地控制加热器电流，而不是震荡式控制加热器。系统装配固态电流控制电路，这点跟许多系统采用的自藕变压器不同。在该系统中，电流或者RMS值的持续时间被控制。用户可以选择一个设定值，它实际上是设定交流电半周期的部分，会出现跟钨加热器电线的交叉。这样，系统可以实现快速的电流控制，这使得闭环温度控制就可以实现。此外，电流控制以及温度控制，可以满足蒸发的苛刻要求，无论是对有机材料还是对金属。我们测量坩埚TB的RMS电压，RMS电流，和温度，并通过热电偶TC跟坩埚底部接触的方式测量温度。空坩埚的加热实验结果如下图所示，这些加热实验结果是在208V线电压下进行的。电流和电压(没有显示)通过RMS仪表测量。
通过以上的温度与电流的关系，我们可以设定并控制电流以达到坩埚内想要的温度，温度可以通过热电偶来测量。材料防止在坩埚中热损失和加热时间的常量将会发生变化，然而坩埚内的温度和热电偶的测量值之间的关系将不会变化。因此，我们的技术可以实现坩埚内的温度不依赖于大部分放入的材料，甚至不受线电压值的影响。
NTE-4000（M）热蒸发系统产品特点：
至大可支持7”的方片或200mm的晶圆片
沉积速度可控
旋转的样品台
双坩埚
2KVA SRC控制电源
晶振式膜厚监控仪
通过LabView软件实现PC计算机控制
相似产品型号：
NTE-4000 基于PC计算机全自动控制的独立系统
NTE-3500 基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立系统
NTE-3000 基于PC计算机全自动控制的双蒸发源台式系统
NTE-1000 计算机控制的单蒸发源台式系统
我公司主要经营各类真空镀膜微纳加工设备，包括薄膜沉积、刻蚀及清洗去胶设备等（ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，热真空试验，晶圆清洗机，PA-MOCVD）