光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。
复达检测依法向社会各界提供光刻胶检测服务，具体检测服务内容如下：
（1）对于光刻胶检测我们可提供的检测范围，包括但不限于以下：
配方检测，折射率检测，性能检测，有害物质检测，成分比例测定,元素测定,化学测定,金属离子测定,配方检测,粘度测定，显影速度、粘附力、曝光度、显影残留物、耐化学性，重金属检测,液相检测,VOC检测,厚度检测,吸水率检测等。
（2）本检测机构还可提供相关标准检测，包括但不限于：
T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶
T/ICMTIA 5.2-2020 集成电路用ArF浸没式光刻胶
SJ 21293-2018印制板用光成像抗蚀抗电镀油墨规范
SS 83-1972抗蚀保护用热敷沥青基覆层
GB/T 16527-1996硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范
GB/T 29846-2013印制板用光成像耐电镀抗蚀剂
GOST 27597-1988电子技术制品. 抗蚀性评估方法
更多检测标准欢迎联系咨询。
（3）本光刻胶检测机构抗蚀性检测数据结果出具时间依据样品数量、项目要求而定，一般周期为3-10个工作日，支持加急处理。
（4）本检测机构已获CMA、CNAS资质认可，可向社会各界出具第三方检测报告，本报告可做司法诉讼依据具备法律效益。
