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2025中国（深圳）国际半导体展览会
China (Shenzhen) int'l Circuitboard & Electronic assembly Show 2025
展会时间：2025年4月9日-11日
论坛时间：2025年4月9日-11日
展会地点：深圳国际博览中心
2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，这一科技盛宴，将于璀璨春日的2025年4月9日至11日，在深圳这座充满活力的创新之都的心脏地带——深圳会展中心（福田）隆重拉开帷幕。这不仅是一场关于半导体产业科技与未来趋势的汇聚，更是一次全球智慧与创新力量的璀璨碰撞。
届时，来自世界各地的行业巨头、先锋企业、科研机构及精英学者将共襄盛举，携其新研发的半导体制造设备、高精尖材料以及核心部件精彩亮相。展览会将通过宏大的展区布局、精细的展品分类、以及前沿的技术论坛，全方位、多角度地展现半导体制造业的新成果与未来蓝图。
在这里，每一台精密的设备都闪耀着智慧的光芒，每一种创新材料都蕴含着科技的突破，每一个核心部件都承载着推动行业前行的力量。参展商们将通过生动的演示、深入的交流，共同探索半导体技术的无限可能，携手绘制半导体产业的新篇章。
展会还将设立多个特色专区，如智能制造体验区、创新成果展示区等，让参会者能够近距离感受半导体技术的魅力，亲身体验科技进步带来的便捷与高效。这不仅是一个展示的平台，更是一个交流的舞台，一个促进合作、共谋发展的契机。
2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，期待您的莅临，共同见证半导体产业的未来！
现代信息技术的高速发展依赖于芯片性能的大幅提升，在半导体制造的生态系统中，光刻机和光刻胶是两个关键的环节，它们共同决定了芯片制造的精度和效率。随着全球对高性能半导体的需求不断增加，光刻机和光刻胶的市场竞争愈演愈烈，成为各大科技企业争夺的焦点。 光刻机是将电路图案转移到硅片上的设备，其性能直接影响芯片的生产能力和良率。尤其在现代芯片制造中，随着制程技术的不断推进，光刻机的分辨率要求越来越高。极紫外光（EUV）光刻机的出现使得7nm及以下制程成为可能，这对光刻机制造商提出了更高的技术要求。荷兰的ASML是这一领域的企业，凭借其 EUV技术的独特优势，牢牢占据市场主导地位。
光刻胶作为光刻工艺中的关键材料，其质量和性能直接影响图案的精度和可靠性。高端制程对光刻胶的要求极为严格，尤其是对分辨率、抗蚀刻性和热稳定性的要求，光刻胶的性能直接决定了光刻效果好坏，光刻机与光刻胶直接决定一国的芯片制造能力。
2、半导体产业兵家必争之地
近年来，我国在光刻机和光刻胶领域的投资持续增加，国家政策的支持也为国产企业的发展提供了强劲动力。当前高端光刻机仍依赖于进口，但国产光刻胶的市场占有率正逐步提升，比如i-line光刻胶的国产化率已经超过60%-70%，KrF 光刻胶的国产化率也超过30%-40%，国产光刻胶正在逐步打破国外技术垄断。光刻机和光刻胶的竞争将不仅仅是技术层面的较量，还将涉及供应链的安全和自主可控能力。随着全球半导体产业链的重组，各国都在寻求在这一关键领域的战略自立。光刻机和光刻胶的研发不仅关乎单一企业的命运，更关系到国家的科技自主权和产业竞争力。 光刻机与光刻胶的竞争已经成为半导体产业中的兵家必争之地。未来，谁能够在光刻机与光刻胶的技术、市场及供应链中取得优势，谁就能在全球半导体产业中占据更为有利的位置。