在提高JIS标准下MH53钼钨系高速钢硬度时需要注意哪些问题

# 在提高JIS标准下MH53钼钨系高速钢硬度时需要注意的问题

## 一、热处理过程中的注意事项

1. **淬火环节**

   - **防止过热**

     -**原理**：如果淬火加热温度过高，会导致MH53高速钢的晶粒粗大。粗大的晶粒会降低钢的韧性、强度等综合性能，并且可能在后续加工或使用过程中出现裂纹等缺陷。

     -**操作要点**：需要jingque控制淬火加热温度，一般应按照钢材的具体规格和热处理工艺要求设定温度范围。例如，在加热设备上安装jingque的温度测量和控制装置，如热电偶温度计，并定期对设备进行校准，确保温度误差在允许范围内（通常为±5°C）。

   - **淬火应力**

     -**原理**：淬火过程中，由于冷却速度较快，MH53高速钢内部会产生较大的淬火应力。这种应力可能会导致工件变形甚至开裂，尤其是对于形状复杂或尺寸较大的工件。

     -**操作要点**：为了减小淬火应力，可以采用合适的淬火方式，如分级淬火或等温淬火。在分级淬火时，要准确控制分级淬火的温度和停留时间。例如，对于MH53高速钢，分级淬火温度可选择在200- 300°C，停留时间根据工件尺寸确定，一般为10 -30分钟。在淬火前对工件进行预热处理也有助于减小淬火应力。预热可分阶段进行，如先在500 -600°C预热一段时间，再升温到淬火温度。

2. **回火环节**

   - **回火不及时**

     -**原理**：淬火后的MH53高速钢处于高应力状态，如果不及时回火，在室温下放置一段时间后，内部应力会逐渐释放，可能导致工件自行开裂。

     - **操作要点**：淬火后应尽快进行回火处理，一般要求在淬火后1 -2小时内开始回火操作。

   - **回火次数和温度**

     -**原理**：回火次数和温度对MH53高速钢的硬度和组织稳定性有重要影响。回火次数过少或回火温度不当，可能无法有效消除内应力，也不能促使残余奥氏体充分转变为马氏体，从而影响硬度的提高和组织的稳定性。

     - **操作要点**：通常需要进行2 -3次回火。回火温度应根据钢材的具体情况合理选择，一般在500 -600°C范围内。每次回火的时间也要根据工件的尺寸和形状确定，例如，对于较小的工件，每次回火时间可控制在1 -1.5小时；对于较大尺寸的工件，回火时间可延长至1.5 - 2小时。

## 二、表面处理过程中的注意事项

1. **渗碳和渗氮处理**

   - **渗层深度控制**

     -**原理**：在渗碳或渗氮处理MH53高速钢时，如果渗层深度过深或过浅都不利于其性能。渗层过浅则无法有效提高表面硬度，而渗层过深可能会导致表面硬度梯度不合理，容易出现剥落等缺陷。

     -**操作要点**：对于渗碳，要jingque控制渗碳时间、温度和渗碳气氛的碳势。例如，采用气体渗碳时，根据所需的渗层深度（如要求渗层深度为0.5- 1mm），通过调整渗碳气体的流量和比例、渗碳时间（一般为几小时到十几小时）以及渗碳温度（900 -950°C）来控制渗层深度。对于渗氮，同样要控制好渗氮温度（500 - 550°C）、时间（10 -50小时）和氨气流量，以获得合适的渗层深度。

   - **表面质量**

     -**原理**：渗碳或渗氮过程中，如果工艺不当，可能会在MH53高速钢表面产生缺陷，如渗层不均匀、表面粗糙度增加等。这些缺陷会影响钢的表面硬度和耐磨性。

     -**操作要点**：在渗碳或渗氮前，要对工件表面进行彻底的清洁和预处理，如脱脂、除锈等。在渗碳或渗氮过程中，要确保渗碳炉或渗氮炉内的气氛均匀，工件放置合理，避免出现局部渗层过厚或过薄的情况。

2. **涂层处理**

   - **涂层结合力**

     -**原理**：无论是物理气相沉积（PVD）还是化学气相沉积（CVD）涂层，如果涂层与MH53高速钢表面的结合力不足，在使用过程中涂层容易剥落，无法有效提高表面硬度和耐磨性。

     -**操作要点**：对于PVD涂层，在涂层前要对工件表面进行严格的清洗和活化处理，如采用离子清洗等方法，以提高表面活性，增强涂层与基体的结合力。对于CVD涂层，要控制好涂层反应的温度、压力和气体流量等参数，确保涂层与基体之间形成良好的冶金结合或化学键合。

   - **涂层厚度均匀性**

     -**原理**：不均匀的涂层厚度会导致MH53高速钢表面硬度不均匀，影响其整体性能。

     -**操作要点**：在涂层过程中，要保证工件在沉积设备中的位置合理，使涂层材料能够均匀地沉积到表面。例如，在PVD设备中，要确保工件的旋转或平移装置正常工作，使工件各个部位都能均匀地接受涂层材料的沉积；在CVD设备中，要优化反应气体的供给方式，保证反应室内气体分布均匀。