高能量火花等离子电源系统和业内高焦距和分辨率的光学系统，实现高水平的准确性、重复性、稳定性金属高速检测。
1、高能量火花等离子电源系统
高能量范围、高可靠性等离子电源系统释放高质量电火花。
可分析各类基体，对难激发的铸铁、铸铝类材料分析有独特优势。
2、高性能光学系统
业内高焦距和分辨率的光学系统AES998提供了强大的光谱分析平台，光谱分析精度高、可靠性强；光学系统稳定，校正周期长。
3、激发台设计优化
采用动态、静态氩气结合的氩气气流设计，确保分析时无需热机，及时分析样品；并且待机时低气流量消耗，节省氩气。
优化的氩气吹扫气流设计有效排出金属蒸汽，促进电火花稳定释放。
防护门设计有效隔绝噪声和电磁干扰，防止未放样品误激发，为测试人员保驾护航。
4、用户体验便捷化
从样品处理到仪器操作，过程设计简单易操作，兼职人员可日常操作。
WINLAB软件系统可视化操作设计，操作和维护功能一目了然，测试人员可快速学习和操作。
5、硬件状态监控保护
实时监控、显示仪器状态，超出状态范围时自动保护仪器系统
技术参数
光学系统：
1、光学结构：Paschen-Runge结构；
2、光栅焦距：998.8mm；
3、凹面光栅：刻线密度：2160gr/mm，色散率0.47nm/mm(1级)；
4、狭缝宽度：入射狭缝：20μm；出射狭缝：35-100μm；
5、光室填充：真空型（真空度≤3Pa）或空气型、恒温控制（36±0.1°C）；
6、谱线范围：170-780nm（真空），190-780nm（空气）；
7、Zui多通道：48个；
8、探测器：Φ13mm、Φ28mm，10级侧窗型光电倍增管；
激发台：
1、类型：氩气冲洗，保护门设计；
2、特殊样品：可提供小样品夹具；
