NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀概述：
NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。
该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。
NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀产品特点：
铝质腔体或不锈钢腔体
不锈钢立柜
能够刻蚀硅的化合物(~400?/min)以及金属
典型的硅刻蚀速率，400?/min
高达12”的阳极氧化铝RF样品台
水冷及加热的RF样品台
大自偏压
淋浴头气流分布
极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别
涡轮分子泵
至多支持8个MFC
无绕曲气体管路
自动下游压力控制
双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）
终点监测
气动升降顶盖
自动上下载片
预真空锁
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
完全的安全联锁
可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀
Features：
Aluminum orStainless Steel Chamber
StainlessSteel Cabinet
Capable ofetching Si compounds (~400 ? /min)andmetals
Typical Sietch rate, 400 ?/min
Up to 12“Anodized RF Platen
WaterCooled and Heated RF Platen
Large SelfBias
Shower Headgas distribution
Approximay10-6 Torr< 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torrbase pressure
TurbomolecularPump
Up to eightMFCs
No flexingof gas lines
Down StreamPressure Control
Dual Etchcapability: RIE and Plasma Etch（Option）
End PointDetection
PneumaticallyLifted Top
Automaticloading/unloading
LoadLock
PCControlled with LabVIEW
RecipeDriven, Password Protected
ully SafetyInterlocked
OptionalICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Sietch
