磁控溅射镀膜机 NSC-4000 Sputter

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机：先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7Torr，15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：

·        不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔

·        70，250或500l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

·        13.56MHz，300-600WRF射频电源以及1KW DC直流电源

·        晶振夹具具有的<1?的厚度分辨率

·        带观察视窗的腔门易于上下载片

·        基于LabView软件的PC计算机全自动控制

·        带密码保护功能的多级访问控制

·        完全的安全联锁

选配项：

·        向上、向下或侧面溅射

·        RF、DC以及脉冲DC溅射

·        共溅射、反应溅射

·        组合溅射

·        RF或DC偏压（1000V）

·        样品台可加热到700°C

·        膜厚监测仪

·        基片的RF射频等离子清洗

·        预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

应用：

·        晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

·        光学以及ITO涂覆

·        带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

·        带RF射频等离子放电的反应溅射

型号：

·        NSC-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统

·        NSC-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统

·        NSC-3000：PC计算机全自动控制的台式系统

·        NSC-1000：半自动控制的台式系统

(以下为双系统型号)

·        NSR-4000：溅射/RIE系统

·        NSP-4000：溅射/PECVD系统

·        NST-4000：溅射/热蒸发系统

我公司主要经营各类真空镀膜微纳加工设备，包括薄膜沉积、刻蚀及清洗去胶设备等（ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，热真空试验，晶圆清洗机，PA-MOCVD）