上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140

KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言,可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出*大 600 mA 离子流.

KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

KRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域,上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T:+86-21-5046-1322                  T: +886-3-567-9508 ext 161
F:+86-21-5046-1490                       F: +886-3-567-0049
M: +86152-0195-1076                    M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                   www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!